上海日立電器有限公司科(kē)技(jì)大樓(lóu)建設項目可行性研究報告

建設時(shí)間:2003年 建設(shè)地點:上海金橋

'該項目位於金橋出口加工區(qū)26#地塊內,新建大樓占地總麵積1950平方。主要設置試驗開發中心(技術人(rén)員辦公和試驗加工設備(bèi)用房)、信息管理中心及相(xiàng)關管理部門辦公樓(lóu)。總投資約5000萬。

獲獎信息:

獲獎項目名稱:上海日立(lì)電器有限公司(sī)科技大(dà)樓建設項目可行性研究(jiū)報告(gào)

發(fā)獎部門:中國輕工業勘察設計協會

獎項等級:工程谘(zī)詢三等獎

獲獎年份:2004年

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