上海日立電器有限公司科技大樓建設項(xiàng)目(mù)可行性研究報告

建設時間:2003年 建設(shè)地點:上海金橋

該項目位(wèi)於金橋出口(kǒu)加工區26#地(dì)塊內,新建大(dà)樓占地總麵積1950平方。主(zhǔ)要設置試驗開發(fā)中心(技術人員辦公和試驗加工(gōng)設備用房)、信息管理中心及相關管理部門辦公樓。總投資約5000萬。

獲獎信息:

獲獎項目名稱:上海日立電器有限公司(sī)科技大(dà)樓建設(shè)項目可行性(xìng)研究報(bào)告(gào)

發獎部門:中國輕工業勘(kān)察設計協(xié)會

獎項等級:工程谘詢三等獎

獲獎年份:2004年

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